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dc.contributor.authorKolb, Lucie
dc.contributor.authorRassel, Laurence
dc.contributor.authorPregger, Laura
dc.contributor.authorOswald, Cheyenne
dc.contributor.authorKelemen, Tena
dc.contributor.authorBruder, Johannes
dc.date.accessioned2020-02-17T11:04:36Z
dc.date.available2020-02-17T11:04:36Z
dc.date.issued2019-12-04
dc.identifier.urihttps://irf.fhnw.ch/handle/11654/30447
dc.language.isoen_USen_US
dc.accessRightsAnonymous*
dc.subject.ddc700 - Künste, Bildende Kunst allgemeinen_US
dc.titleRadical Presence – Radical Presentsen_US
dc.type06 - Präsentation*
dc.spatialIXDM FHNWen_US
dc.eventECAM Colloquiumen_US
dc.audienceScienceen_US
fhnw.publicationStateUnpublisheden_US
fhnw.ReviewTypeNo peer reviewen_US
fhnw.InventedHereYesen_US
fhnw.PublishedSwitzerlandYesen_US
fhnw.IsStudentsWorknoen_US


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