Nanostructured AlN SAW oscillator on CMOS for jitter-critical reference clocks
Lade...
DOI der Originalpublikation
Projekttyp
angewandte Forschung
Projektbeginn
01.01.2026
Projektende
31.12.2027
Projektstatus
laufend
Projektkontakt
Projektmanager:in
Mitarbeitende
Beschreibung
Zusammenfassung
This project develops a nanoscale surface acoustic wave (SAW) oscillator as a precision frequency reference for high‑speed digital systems. It uses Rayleigh‑mode SAWs in sub‑500 nm HiPIMS‑grown AlN films on CMOS‑compatible substrates, with sub‑micron electrodes to optimize acoustic confinement, coupling, and Q‑factor.
FHNW supports chip sourcing, simulation, and characterization, while PSI/LNQ leads processing.
The target is 156.25 MHz operation with <200 fs jitter, ±5 ppm drift, <1 mW power, and fast startup (<100 μs), enabling energy‑efficient clocking in AI and data‑center hardware. After validating low‑temperature AlN deposition, the oscillator will be fabricated and benchmarked toward a competitive Swiss timing product.
Während FHNW Zugehörigkeit erstellt
Ja
Zukunftsfelder FHNW
Hochschule
Hochschule für Technik und Umwelt FHNW
Institut
Institut für Sensorik und Elektronik
Finanziert durch
SNI Nano-Argovia
Projektpartner
Micro Crystal AG
Auftraggeberschaft
SAP Referenz
T456-0141-2
Schlagwörter
SAW oscillator
HiPIMS‑grown AlN
HiPIMS‑grown AlN